半導体製造技術の概要とAI技術の適用について
半導体製造技術の概要とAI技術の適用について(前工程、ウエハ製造、洗浄工程、成膜工程、リソグラフィ工程、エッチング工程、不純物拡散工程等、後工程、ダイシング、マウント、ボンディング、モールド、マーキング、バンプ加工、パッケージング、拡散、イオン注入、アニーリング、ウェットエッチング、ドライエッチング、液浸露光装置、EUV、ARエキシマレーザ、ムーアの法則、2nm、感光剤、写真製版技術、ステッパー、熱酸化、CVD、スパッタ、チョクラルスキー法、インゴット、Siウェハ)